中科院研究员说出5nm光刻技术的真相，华为能创造奇迹吗？文|考拉科技馆排版|考拉科技馆原创文章

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中科院说出5nm光刻技术的真相，华为能创造奇迹吗？
都知道，为了打压华为，美国不惜修改产品出口规则，限制台积电与华为开展合作，导致海思芯片面临成为绝版的危机。
业内传闻，为了解决芯片制造问题，华为正计划进军芯片制造领域，试图实现芯片设计制造全流程的独立，摆脱被美国卡脖子的情况。
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而在前不久，一则华为已经在国内武汉成功搭建起首个芯片厂房的消息，也间接证实华为确实在尝试进军芯片制造领域。
不过，进军芯片制造领域，仅有行动还是远远不够，如果没有相应的硬件条件作为支撑，那也很难取得成功。而华为进军芯片制造领域的最大难关，就是光刻机，如果华为不能解决光刻机问题，那谈制造芯片，不亚于痴人说梦。
光刻机问题要怎么解决呢？目前，国内最顶级的光刻机制造商上海微电子，其能制造的最强大光刻机，仅为28nm 。而28nm光刻机，虽然可以解决华为通讯芯片的制造问题，但要说拿来制造手机芯片，还是有些捉襟见肘。
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值得一提的是，在今年7月，中科院网站曾刊登一篇国产5nm光刻技术获得重大突破的消息，该消息在被发布之际，曾一度有国内媒体报道称：我们已经成功迈出制造5nm光刻机的第一步！
这是真的吗？在万众期待，希冀国内最强大的科研机构中科院能解决5nm光刻机的关键时刻，中科院研究员刘前说出了5nm光刻技术的真相！
需要科普的是，这个刘前，就是打破国内“5nm光刻技术”壁垒的主要贡献者之一。
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援引中科院研究员刘前说出的真相：中科院研发的5nm光刻技术与高端光刻机采用的极紫外光( EUV)是两回事。中科院研发的5nm光刻技术，其主要用途是制作光掩膜，这是集成电路光刻制造中不可缺少的一个部分。
但是，这个5nm光刻技术，并不能用来制造5nm光刻机，也就是说，暂时我们还无法打破荷兰光刻机巨头ASML的垄断。
关键时刻，中科院研究员说出5nm光刻技术的真相！而这个真相，其实还挺打击人的，同时也让我们意识到，光刻机技术的突破并非一朝一夕就可以实现的。
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华为能创造奇迹吗？
正如上文所说的，目前国内最先进的光刻机是28nm光刻机，这只能满足华为通讯业务的芯片所需，远无法解决华为手机业务所面临的芯片危机，在这一背景下，华为能创造奇迹吗？
虽然前方看似无路，但编者觉得，华为是能够创造奇迹的。如果你足够了解华为，那你一定会发现，与华为手机业务部门刚成立那几年相比，现在的缺芯危机，根本就不算什么大事。
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在2003年的时候，华为就开始尝试做手机，但由于没有经验，手机业务是做得一塌糊涂，就连华为自己的员工都不愿意使用。而当时的任正非甚至衍生出这样一个想法：华为应该坚持通信业务，不应该造手机，干脆把手机业务卖掉算了。
所幸，在当时华为高层郑宝用的极力反对下，任正非才打消了这一念头，而此后的华为手机业务，也是越做越好，并逐步成为全球最知名的手机品牌。