视觉第一高速韩国光刻机技术获重大突破！会与中国分享吗？，不受美国限制据最新报道

据最新报道，韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了极大进展。虽然报道中还未说明具体是哪一家韩国企业取得了技术突破，但分析推测应为韩国整个半导体光刻产业。
报道指出，近10年来，三星电子（SamsungElectronics）、SK海力士（SKHynix）等为代表的韩国芯片制造商都在对光刻技术进行深入的探索。有消息传出，有部分韩国企业（据称是三星）已经开始使用5nm工艺的EUV光刻技术来生产智能手机芯片。

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公开资料显示， EUV光刻技术是多种先进技术的总称，具体包括多层反射镜，多层掩模，防护膜，光源等。作为高端芯片生产流程的重要技术组成， EUV光刻技术的研发是一块十分“难啃的骨头” ，其具体的技术高度和复杂程度，在业内甚至有超过研发“原子弹”的说法。
有报道指出，从1999年至今，全球参与EUV光刻技术研发的国家超过40个，主要以美国、欧洲、日本、韩国的企业为代表，但是最终仅有美国企业Cymer公司完成了EUV光源功率的商业化指标，目前也是荷兰巨头阿斯麦（ASML）的光源模组供应商。
由于阿斯麦必须依赖Cymer公司提供技术支持，最终才能完成EUV光刻机的制造。因此，阿斯麦必须看美国的脸色行事。这也是该司至今没法将EUV光刻机送货到中芯国际手中（2018年12月购买至今未到货）的原因。

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日前，中国半导体行业协会副理事长魏少军也指出，我国在芯片设计不受国外制约，主要的“短板”就是制造环节，光刻胶为代表的高端半导体原料还需要大量的研究。那么，韩国将来有望与中国分享这一技术吗？不是没有这个可能。
要知道，韩国芯片巨头一直盼着能在中国芯片市场“分一杯羹” 。其中，上文提及的三星电子、SK海力士等韩国企业早已在中国设下了芯片工厂。三星电子在去年12月还宣布追加80亿美元（折合约529亿元人民币）的资金投入，以促进在华NAND闪存芯片的生产。

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到了今年，即使美国的新规不断升级，韩国的巨头也没有放弃与中国的合作。据中国基金报消息，今年9月下旬，我国知名半导体材料制造商——晶瑞股份透露了一则消息，该司将通过代理商（SingtestTechnologyPTE.LTD.）从SK海力士手上购买一台二手的ASML光刻机设备，打算利用此来发展高端半导体材料。
11月12日当天，三星还首次面向中国市场发布了新款高端芯片产品——Exynos1080 ，并打算靠这款5nm工艺的芯片打入小米、vivo等中国企业的智能手机零部件供应链。
【视觉第一高速韩国光刻机技术获重大突破！会与中国分享吗？，不受美国限制】考虑到中国目前已与日本、韩国达成了RCEP ，预计在经济贸易方面，日韩将进一步与中国扩大联系；再加上如今美国局势变化，估计届时中韩也将在这一领域展开更多合作。

视觉第一高速 韩国光刻机技术获重大突破！会与中国分享吗？，不受美国限制

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