南方科技君 国产7nm芯片打破国外垄断,不用EUV光刻机!芯动科技正式官宣

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我们都知道 , 美国禁令之下芯片问题已经成为了当下科技圈最热的话题 , 这其中的原因除去芯片本身在科技发展中具有不可替代性之外 , 还因为我国半导体产业在这一块确实存在非常严重的“卡脖子”情况 。
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我们能造几纳米芯片?
就目前来看 , 当前国际一流的芯片大多采用7nm制程工艺制造 , 但是拥有7nm及以下工艺的目前全球却只有台积电和三星两家 , 而且美国技术的占比还非常高 。 比如根据台积电公布的官方数据 , 其14nm和7nm工艺美技术占比就在15%以上 。
那么如果完全不用美国技术 , 我们能够造出多少纳米的芯片呢?根据倪光南院士的说法 , 国内能够独立自主制造28nm光刻机 , 同时也具备28nm乃至14nm工艺芯片制造能力 。
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不过这里需要说一下的是 , 目前我国最先进的国产光刻机还是90nm级别 , 至于最新的28nm国产光刻机 , 根据上海微电子的透露 , 预计两年内便可线下 。
所以 , 目前的情况是 , 如果仅凭现有的技术 , 那么我们可以制造28nm甚至14nm芯片 , 但是如果要制造更高端的7nm , 5nm芯片 , 那还是得依靠荷兰的EUV高端光刻机 。
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芯动科技正式官宣
但是现在情况不一样了 , 近日芯动科技正式官宣 , 国产7nm芯片打破外国垄断 , 就算不用EUV光刻机也能造出7nm芯片!
根据芯动科技在10月11日公布的消息 , 其已经完成全球首个基于中Xin国际FinFETN+1先进工艺的芯片流片和测试 。 值得注意的是 , 此次所有IP全自主国产 , 功能也是一次测试通过 。
这个FinFETN+1工艺有什么特别的呢?根据业内大佬梁梦松在今年早些时候的透露 , 该工艺生产出来的芯片和台积电14nm芯片标准相比 , 性能提升20% , 功耗降低57% , 在功率和稳定性方面几乎与台积电7nm工艺等同 。
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而这也就意味着 , 就算是不用EUV光刻机 , 只用普通的光刻机 , 再搭配上FinFETN+1工艺就可以制造出等同于台积电的7nm芯片 。
更重要的是 , 正如芯动科技所官宣的那样 , 此次所有IP全自主国产 , 完全不用担心卡脖子问题!
此外 , 目前该消息已经上了《珠海特区报》 , 并且获得高度赞誉:“芯动科技首个基于中芯国际先进工艺的芯片流片和测试成功 , 不仅意味着具有自主知识产权的‘国产芯’再次打破国外垄断 , 同时也说明‘国产版’的7nm芯片制造技术已经得到突破 。 ”
芯片是人造的 , 不是神造的
关于芯片制造 , 比亚迪的老总王传福曾经喊出了这样一句口号:“芯片是人造的 , 不是神造的” 。
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事实上也的确如此 。 当芯片制造被卡脖子时 , 网络上铺天盖地的都是科普芯片制造有多么难 , 甚至于台积电创始人张忠谋在早些时候也曾说“即便大陆举国之力发展芯片制造 , 也难以取得成功” 。
但是实际上 , 就拿光刻机来说 , 被誉为“人类工业皇冠上的明珠” , 荷兰ASML公司总裁就直言:“给中国人图纸也造不出高端光刻机” , 同时还有很多人说造光刻机比造原子弹还要难 。
而事实上呢?造光刻机确实很难 。
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以荷兰EUV光刻机为例 , 不仅重量高达180吨 , 而且内部零件有8万多个 , 仅仅是安装、调试就要花一年时间 。
更重要的是 , 它是一件集美国光源设备、日本的光学技术、德国的机械工艺、瑞典的轴承等等各国尖端工艺的精密设备 , 单凭一家企业确实很难在短时间内做出来 。