气体圈子半导体FAB厂气体相关知识( 二 )

答：Photoresist（光阻）。是一种感光的物质，其作用是将Pattern从光罩（Reticle）上传递到Wafer上的一种介质。其分为正光阻和负光阻。
什幺是曝光？什幺是显影？
答：曝光就是通过光照射光阻，使其感光；显影就是将曝光完成后的图形处理，以将图形清晰的显现出来的过程。
何谓Photo？
答：Photo=Photolithgraphy ，光刻，将图形从光罩上成象到光阻上的过程。
何为BARC？何为TARC？它们分别的作用是什幺？
答：BARC=Bottom Anti Reflective Coating ，TARC=Top Anti Reflective Coating. BARC是被涂布在光阻下面的一层减少光的反射的物质， TARC则是被涂布在光阻上表面的一层减少光的反射的物质。他们的作用分别是减少曝光过程中光在光阻的上下表面的反射，以使曝光的大部分能量都被光阻吸收。
现在的生产线上，曝光机的光源有几种，波长多少？
答：有三种：高压汞灯光谱中的365nm 谱线，我们也称其为I-line; KrF 激光器，产生248 nm 的光; ArF 激光器，产生193 nm 的光;
下一代曝光机光源是什幺？
答：
我们可否一直把波长缩短，以提高分辨率？困难在哪里？
答：不可以。困难在透镜材料。能透过157nm 的材料是CaF2 ，其晶体很难生长。还未发现能透过更短波长的材料。
为什幺光刻区采用黄光照明？
答：因为白光中包含365nm成份会使光阻曝光，所以采用黄光; 就象洗像的暗房采用暗红光照明。
什幺叫一个Die？
答：一个Die也叫一个Chip;它是一个功能完整的芯片。一个Field可包含多个Die;
为什幺曝光机的绰号是“印钞机”？
答：曝光机很贵；一天的折旧有3万-9万人民币之多;所以必须充份利用它的产能，它一天可产出1600片WAFER 。
什幺是DUV SCANNER？
答：DUV SCANNER是指所用光源为Ｄeep Ultra Voliet ，超紫外线．即现用的248nm ， 193nm Scanner
光阻种类有多少？
答：光阻种类有很多．可根据它所适用的曝光波长分为I-line光阻， KrF光阻和ArF光阻
厂务供气系统中何谓 Bulk Gas ?
答：Bulk Gas 为大气中普遍存在之制程气体, 如 N2, O2, Ar 等.
厂务供气系统中何谓Inert Gas?
答：Inert Gas 为一些特殊无强烈毒性的气体, 如 CF4, CHF3, SF6 等.
厂务供气系统中何谓Toxic Gas ?
答：Toxic Gas 为具有强烈危害人体的毒性气体, 如 SiH4, Cl2, BCl3 等.
N2氮气（NITROGEN）？
【气体圈子半导体FAB厂气体相关知识】空气中约4/5是氮气。氮气势一安定之惰性气体，由于取得不难且稳定，故Fab内常用以当作Purge管路，除去脏污、保护气氛、传送气体（Carrier Gas）、及稀释（Dilute）用途。另外，氮气在零下196℃（77F）以下即以液态存在，故常被用作真空冷却源。现在Fab内Clean House用之氮气为厂务提供99.999﹪纯度者，生产线路所用之氮气为更高纯度者。