中芯国际|中芯国际“放弃”光刻机，另寻出路传喜讯，美：出乎意料芯片|纳米|it芯片

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自从美国开始对华为进行打压之后，所有人都意识到了中国半导体行业的短板，这一个时候徐国中企开始联合起来进行研发，希望能够在快马加鞭取得突破，中芯国际作为国内最大的一个芯片巨头公司，成为了所有人的希望，在这一种期望之中中芯国际终于是没有让人失望。
据悉中国的芯片行业最多做到28纳米，这是落后国外芯片行业二三十年的一个巨大差距，荷兰阿斯麦已经能够实现3纳米的芯片量产，中芯国际在一次次的期望和突破之中，终于成功的实现了17纳米的芯片量产，这一个好消息传出让许多人都是兴奋不已。
虽然说中芯国际与台积电这样的公司还存在不小的差距，一个是17纳米一个是5纳米，可是有进步就意味着一切皆有可能，早先中芯国际就已经开始在研究7纳米芯片，目前已经取得了很大的进展，有可能在2021年实现7纳米量产的心愿。
这就是他们独创的N+1和N+2技术，虽然说其中的程序要比光刻机更加的复杂，但是最后的成功却还是不错的，能够超越普通芯片的20%性能。
相信在这一个个的好消息之后，中国半导体将会迎来一片盛世，你们怎么看这件事情？欢迎评论区留言关注！
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