光刻机|国产EUV光刻机研发取得历史性突破，荷兰ASML完全未料到会这么快 asml

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【光刻机|国产EUV光刻机研发取得历史性突破，荷兰ASML完全未料到会这么快】

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科技发展，技术进步，中国经济也在不断发展，现已成为全球第二大国，而中国的快速发展刺激到了美国霸主的地位，它害怕地位不保，于是对中国进行疯狂的打击，尤其是科技方面，美国更是毫不留情，直接对中国封锁技术领域的授权和使用，同时打压中国的一些企业，造成重大损失，尤其是华为，手机业务直线下降，甚至刚刚发布的旗舰机华为p50也只能使用4G芯片。
虽然我国在半导体领域内的研究相对薄弱，但是中国在意识到问题的严重性后也是非常重视，积极的展开各种半导体研究并且在政策方面加大扶持，全体科研人员共同协作，也是取得了不小的成功，虽然与外国的技术相比，我们只是微不足道的一些成绩，但是慢慢积累就可以成长为参天大树。
现在在半导体代加工领域内有两大巨头直接垄断了7nm一下的高端芯片市场，因为想要制造出高端的芯片就需要一台ASML的EUV光刻机来进行光刻制造。
为什么代加工行业能被垄断呢，就是因为可以生产出EUV光刻机的只有一家公司ASML ，而公司一年生产的光刻机产量自高不超过40台，在全球都缺少芯片的情况下，那必然是遭到全世界的疯抢的，就连中国都不例外，但是美国为了打压中国的科技发展，就从中搞破坏。
目前可以制造出EUV光刻机的公司只有荷兰ASML公司一家公司，为半导体发展做出了巨大贡献，由于全球缺芯热潮爆发，导致半导体的材料也跟着上涨，设备的价格也只能跟着涨，现在一台设备已经高达12亿美元。
中国在几年前就像ASML订购了一台EUV光刻机，但是到现在都没有出货的信息，就是美国来掺了一脚，在EUV光刻机的制造中使用了27%的美国系统和技术，多以ASML想要出口需要得到美国的同意，美国要打压中国半导体领域，美国又怎会轻易同意呢，但是芯片又是必不可少的，所以中国只能走上自我研发的道路。
目前中芯国际已经成功研究出3nm和5nm的芯片核心技术，只少一台光刻机进行实验研发，目前国家各大企业院校正在努力攻克光刻机的各大难题，也是取得了较大的收获，中科院成功研发出可以弥补光源不足的高能源，华卓科技研发出光刻机的核心之一双工作台，几大核心部件的研发完成，也是使得国产光刻机的研制取得了历史性突破！
中国不断的获得在半导体领域内的收获，从中也是学到了很多的技术，为以后在半导体内的发展打下了深厚的基础。这也是令荷兰ASML完全未料到的，意识到事件已经前往不可控的方面发展，着急的公开发言：不该听美国对足够进行技术封锁，中国是ASML想要发展的大客户，现在不仅失去了这个大客户，并且在之后还可能取代了ASML 。
虽然在半导体领域我们一直处于劣势，但是核心技术已经有了重大突破，中国在研发国产芯片中任重道远，相信科研人士会不负众望，早日摆脱缺芯问题的！