佳能|说起光刻机，其实永远是日本人心中的痛，尼康和佳能活生生被挤出了这个市场光刻机|尼康

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【佳能|说起光刻机，其实永远是日本人心中的痛，尼康和佳能活生生被挤出了这个市场】

今天来说下佳能，很多人以为佳能就只是个照相机厂商，但其实佳能也是芯片领域最重要的环节光刻机的制造商之一，因为光刻机用通俗的话来说，本质其实是投影仪+照相机。就是用光源把芯片的电路图投射到涂了光刻胶的硅晶圆上，硅晶圆涂了光刻胶，是一种光感材料，就会显示出电路图来，这中间光学技术运用得比较多。

1952年索尼创始人盛田绍夫用了2.5万美金买下了当时还不受重视的晶体管技术专利，日本从此就开始对芯片着迷了。东芝、三菱、松下、索尼、NEC、夏普等几乎全部扎堆造芯片，连钢铁巨头全日钢也不落后。佳能也是那时全力进军半导体领域，于1970年发售了日本首台半导体光刻机，迄今50周年。
佳能为啥要造光刻机？其实还是利用相机镜头技术。佳能在20世纪60年代中期因此研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后为了进一步扩大业务范围，佳能开始了半导体光刻机的研发。佳能于1975年发售的光刻机在世界上首次实现了1微米以下的曝光。那时的佳能和尼康如日中天，几乎垄断了光刻机的全球市场。

可是，美国用了三招就把佳能、尼康打击，第一招就是封杀技术，佳能、尼康为何能发展那么快？是因为美国之前认为晶体管技术只是过渡的技术，所以并不十分在意，继续向日本提供技术支持和专利售卖。到了上个世纪八十年代，日本把美国芯片企业打得找不着北了。这时美国就急了，搞了个EVU LLC联盟，，把所有美国先进的芯片厂商、应用材料厂商、软件厂商都集合在一起，不给佳能、尼康供应技术，而光刻机又是个需要各种技术的细活。
第二招就是利用了一个时机， 2002年，光刻机157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争。当时的光源达到了193nm ，而接下来要实现更高的工艺要求，就要将光源波长变短，实现更精密的光刻。尼康守旧，结果被美国支持研发的EUV光刻机打败。

第三招是支持了一个企业，即荷兰ASML ，荷兰ASML本来跟美国啥关系都没有，可是这家企业很精明，邀请美国企业入股，又承诺50%以上的零部件采购买国。美国人一听，原来有这么听话的企业，于是把ASML拉进EVU LLC联盟，全力扶持。结果卖身给美国的荷兰ASML就这样彻底击败了佳能、尼康，这段历史教训与5G时代真像，值得华为、中兴借鉴。