光刻胶|国产7nm光刻胶迎来突破，打破日本封锁！中芯国际却不愿意使用？中芯国际

【光刻胶|国产7nm光刻胶迎来突破，打破日本封锁！中芯国际却不愿意使用？】

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在过去的很长时间里，美国都是处在全球通讯科技领域的主导地位，不仅地位不可撼动，还可以赚取丰厚的利润，不过随着我国科技的逐渐崛起，美国开始感受到了一定的威胁开始采取遏制措施，想要阻止中国的继续前进。
这种威胁让美国改变了进出口规则，一时之间中国陷入了“芯片难”的艰难境地，不过中国作为一个强国并没有坐以待毙，而是奋起直追，高校、科研机构、以及迅速发展起来的三万余家的企业，都展开了自己的战略布局。
如果现在要说科技圈有什么爆炸性新闻，那“中国芯”一定是位于榜首的头条，最耀眼的要数中芯国际，在梁孟松和团队的共同努力下，把28nm的芯片升级至7nm ，虽然目前还不能进行量产，但是这已经是重大的突破了，要知道中国在这个领域的研发并没有像其他国家时间那么漫长，成为世界上第三个掌握这项技术的国家，真可谓“皇天不负有心人” ，逐渐在这个领域有了自己的份额。
想要去取得成功是要历经磨难的，日本在化学材料光刻胶在此时决定不再向中国出口，可能大家不知道的是光刻胶在半导体产业链市场规模很小甚至不到百分之一，却能影响着全球4260亿美元的半导体市场的运作，作用无可替代，目前的国内在这方面几乎是空白，所以只有实现了国产，芯片才能顺利的研发下去，绝境逢生国产光刻胶实现了ArF的突破，不仅如此还打通了其他的环节形成了自己的产业链，年产二十吨，企业高达四十多家，市场价值已经高于中芯国际。
不过这时候中芯国际的杨晓松却说道，这些企业没有一家是理想的，而他本人也是光刻胶方面的专家，也负责中芯国际光刻胶这方面的研发是有一定的话语权，面对杨晓松的质疑，无论是工艺成熟程度还是价格与早已掌握了这项技术的日本来说是有差距的，从一方面也在一定程度上反映出我国在这方面还需要继续改进，争取早日取得更大的突破，而这时候国内更应该团结一致，我国的科技才能向前迈进一大步，期待国产光刻胶在未来带给我们的惊喜！