光刻机|好消息！我国新型光刻设备问世，解决多项被国外“卡脖子”技术芯片

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“文/背起行囊（原创文章，欢迎个人转载分享）”旅行是一种病，一旦感染了，你就再也无法摆脱
众所周知，我国在芯片制造这一领域存在着很多短板，而美国打压华为的事件，也让很多人感到气愤，但究其主要原因还是我国无法独立完成芯片的制造，在芯片制造中光刻机技术起着关键作用。但是由于我国起步较晚，本身没有优势，所以我国在光刻机领域还没有突破。但我国科研人员并没有就此放弃，近日就有好消息传出，我国在光刻机领域取得了重大突破。
据俄塔设7月7日报道，国内半导体产业又传出利好消息，光刻机工艺制造龙头企业—上海微电子技术公司已成功完成了22nm光刻机的研制工作。从技术角度来看，虽然该设备在工艺制程上与国际顶尖大厂荷兰ASML相比还是有一定差距，但从近几年国内光刻机整体研制进程来看，这是我国在光刻机领域所取得的一大突破。近年来，在国家政策、资本的助力下，我国的半导体行业发展正逐步缩短与国外的差距，国产替代进程正在加速。
目前高端的光刻机技术主要掌握在日本、荷兰手中，并且荷兰更是这个行业的霸主，但由于种种的原因，荷兰也是永久对我国进行了封锁，其实目的很简单，主要害怕我国琢磨透而影响他们。如今我国终于突破枷锁，并且他们采用的二束激光在自研的光刻机上，成功的突破了光束衍射极限的限制，因此也是研发出了9纳米的线宽，虽然和西方的光刻技术有所差别，但也是我们自主研发的了。
预计首台有完全自主知识产权的28纳米级光刻机将在2021年正式使用，而有了光刻机中科院研发的2nm芯片预计会在2024年投入生产，到时候国产芯片将达到国际水平。我国距离芯片技术的研发、生产、销售这样的一条龙服务，其实还是有一定距离，芯片领域的每次科研突破都十分困难，我国需要拥有自主研发的芯片，才能不被别的国家封锁技术，实现真正的“中国制造” 。
据悉，我国首款光刻机，第一个合作的对象将是国家重点扶持的上海微电子厂，在强强联手下，想必会给科技圈带来很大的影响，根据华卓精科的负责人表示，他们其中的一个部件零售价将达到6000万元。
这是多么大的一个数字啊，除了表明研究的困难性之外，也向人传递除了光刻机的利润，一个部件的价钱都这样了，整台光刻机的价值则是达到了数十亿甚至上百亿。光刻机的诞生可以很好的缓解我们国家没办法制造的问题了，像华为这种大企业只需要提供科技技术就可以了，再也不用看欧美国家的脸色了。
【光刻机|好消息！我国新型光刻设备问世，解决多项被国外“卡脖子”技术】虽然现阶段全球半导体行业仍呈垄断局面，但在当前国产替代浪潮的推动下，我国半导体设备正逐步打破国外垄断，未来发展前景广阔，摆脱“卡脖子”情境指日可待。