江苏激光产业创新联盟|全球首台：大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000投入运行( 三 ) ：全球首台：大型紫外3D直写光刻设备iG

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非对称微结构（3D显示）高效增亮结构（显示照明）

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自由曲面微透镜阵列（深度感知）台阶分布（结构光）
作为对比，用于芯片极紫外投影光刻机（EUV），追求极细线宽（已达5nm），难度在于极端的精度控制和高产率（极紫外光源、运动平台和套刻精度），芯片的投影光刻，用光掩模图形缩微复制，不涉及海量数据处理等问题；用于光掩模的直写光刻设备（LDW），将规则电路图形转化为光掩模，形成显示TFT光掩模。与集成电路的薄胶光刻工艺不同，用于微纳结构形貌的3D光刻，追求形貌与相对排列精度（根据用途不同），难度在于海量数据处理与传输（数百Tb）、大面积的结构功能设计与先进算法、3D光刻与3D邻近效应补偿等保真度工艺等，深度范围：50nm~20微米，精度范围：1nm~100nm 。可见， 3D光刻机在功能与用途上，与以往2D光刻机有明显的不同。
4、3D光刻的用途
iGrapher3000为新颖光电子材料与功能器件的研究和产业创新，开辟了新通道。主要用于大尺寸光电子器件、超构表面材料、功能光电子器件等在内的微纳形貌和深结构的制备，包括大尺寸透明电路图形、高精度柔性触控传感器、高亮投影屏、全息3D显示、MiniLED电路背板、高光效匀光板、虚实融合光子器件、大口径透明电磁屏蔽材料等。
iGrapher3000也可用于平板显示产业和柔性电子产业的光掩模制备，并为高精度大口径薄膜透镜的设计制备提供了战略研发资源。下图为大尺寸柔性导电材料、大尺寸光场调控器件和大型miniLED背光的微电路背板。

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大尺寸柔性触控屏的微电路3D光刻制备

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大尺寸miniLED高光效匀光板、大面积投影屏的3D光刻制备

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大尺寸miniLED背板与透明立体显示屏的3D光刻制备
4、苏大维格的光刻机研发经历
苏大维格光刻仪器事业部在光刻技术与设备领域有扎实的基础，研制了多种用于MEMS芯片的光刻设备MiScan200（8”~12”）、微纳光学的MicroLab（4”~8”）和超表面、裸眼3D显示、光电子器件研究的纳米光刻设备NanoCrystal（8”~32”）。这些新型光刻设备在企业和高等院所广泛应用，解决了我国多个领域研究中的卡脖子问题，为新型光电子器件、新材料、MEMS芯片和传感器件的研发提供了自主可控的先进手段。
【江苏激光产业创新联盟|全球首台：大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000投入运行】2020年1月10日，在国家科技奖励大会上，苏大维格承担的“面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用”成果，荣获国家科技进步奖二等奖。