光刻机|国产光刻机进度太慢，华为等不及了，还不如形成自己的IDM模式华为|半导体|上海市

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众所周知国外刻苦巨头多年一直进行技术禁运，这也让一些高科技产品在国内迟迟不能突破，不过现在变了很多，当然断供的巨头还在断供，是国内企业变了，变得更加强大，技术更先进，当然最近一直被热议的高端光刻机还没有被突破。然而值得一提的是，荷兰阿斯麦不卖给我们最先进的EUV光刻机，上海微电子突破28nm ，它立刻就低价甩卖28nm光刻机，它还是没有明白，等到我们实现自研，完成生产销售内循环的时候就没有他们什么事了。
相信大家都知道曾经的日企研发半导体，技术领先世界，并且获得上千款技术专利。他们制造出的DRAM芯片很快就拿下了80%的美市场份额。于是美通过各领域打压日半导体产业，将日半导体产业拆分，三星挖走了许多高端人才，这也是后来的三星能够力压整个日半导体行业的原因。但美不会坐视三星做大，二十多年前，索罗斯做空韩元逼迫韩开放市场，华尔街巨鳄趁机收购三星电子55%控制权，三星从此成为了老美的“打工仔” ，韩数十年的半导体成果被轻松收入囊中。如今轮到了华为，然而华为在众多技术专利与备胎方案的支持下，依然保持着高速发展的趋势，即使试图拖垮华为，但这也只是徒劳。

由于国产光刻机还是不能用来生产手机芯片，说实话现在的上海微电子可能在风口上了，因为最近被华为“挖走”一些半导体人才，听说老总气的要打电话投诉。还有个问题，研究这么多年，光刻机为什么还是90nm？要知道asml光刻机可达到5nm/7nm ，而其它世界上大多数光刻机厂商也在10nm制程。而上海微电作为国内光刻机老大哥，在2002年就开始起步，到现在还在90nm/28nm ，关键技术是因为浸润式光刻技术还没有突破，如果能够迈过这个坎，接下来就能突破10nm 。
【光刻机|国产光刻机进度太慢，华为等不及了，还不如形成自己的IDM模式】

从华为这个事上，还是看出上海微电还是对科研人才有些不够大方，要不然也不会很快被挖走。我们在技术已经是迟了一步，在人才待遇上更是不能马虎。如果上海微电能够将成本向待遇上倾斜，有足够理由相信国产光刻机到现在会走的更快。既然速度有点慢，那只好由价高者接棒，看来市场竞争还是有好处，让人才理所应当获得报酬，现在开始弥补人才短板，只要还继续着眼于一个点钻研，接下来就按下10nm ， 7nm乃至3nm光刻机的快进键。
当然必须要正视美国发展科技多年，在高科技领域我们还是有所差距，追赶需要时间。