落叶知秋|华为有救了？中科院宣布的5nm光刻技术，让大家“空欢喜”一场众所周知

众所周知，一款5nm芯片想完成批量生产最重要的有两个点：设计构思和制造。
就设计构思来讲，实际上现已有许多生产商可以实现，但是苦于沒有制造专业能力，需要寻找生产商。
而全世界仅有的几个生产商，也需要依靠美国的工艺批量生产，例如台积电、三星。
因此这也是华为公司现在明显的问题，尽管能够自主研发和设计构思集成ic ，但这种产品无法被制造出去，的确是只能看不能用。
这也造成它现在需用使用别的集成ic ，上半年以来现已有几款新公布的智能手机与联发科相互合作，尽管性能指标也算得上出色，但自始至终令人觉得差了那味。
就在大家认为华为公司的将来不明确时，网络上全部都在争先恐后地加入欢呼雀跃：中科院在5nm光刻机上拥有了重大进展、中国拥有了自个的5nm光刻机、华为公司有救了这些讯息。
我们指出，中科院官方网站发表了一篇报导，有关苏州纳米所等在超高精密度激光器光刻工艺科学研究中得到极大突破，团队研发了一种新式三层叠堆薄膜构造，能够完成5纳米的特性线宽。
由于ASML的极紫外光刻技术已经特别先进，中科院为了能做到这一效果，需用选用这一有所不同的方法，期待能够追逐上ASML 。
乍一看来，好像中科院这一讯息就是雪中送炭，下一步就坐等我们一步步的的产品研发，那时候让我们产生更大的惊喜大礼。
那假如成功了，华为公司是否就有救了呢？
前提大伙儿要明白，中科院的这一工艺，最终的目的是为了能完成纳米狭缝电极列阵构造的规模化制造，事实上并不是集成电路，因此根本就并不是指芯片制造。
并且现在中国的光刻机也仍在90nm这一阶段，也只能用于90nm集成ic的制造，可以说是智能手机中的"低端机" 。
ASML则是当今最強，现已能够用以5nm的制造，二者中间距了基本上十年之上的技术难度。
尽管现在许多商品都需用光刻，但别见到光刻工艺，就感觉一定要用到光刻机，这里边依然拥有了极大区别的。
中科院这一工艺，根本就没有提及光刻机的事情，因此并不意味着具有了5nm光刻机的生产力。
此外，我们还特别强调，此项工艺仅仅在试验环节，要完成商业，还需用很多的费用和时长，自然，产品合格率也是能不能做到标准化的关键指标值之一。
所以说，以目前看来，中科院的新式5nm高精密激光器光刻工艺对华为并沒有一点帮助，乃至很有可能根本就并不是同一个产品，华为公司的境地依然特别坎坷。
【落叶知秋|华为有救了？中科院宣布的5nm光刻技术，让大家“空欢喜”一场】虽然这个消息让大家“空欢喜”一场，但是最起码就并不是件坏事，大家能见到中国在光刻工艺上的发展，这就是一件非常值得开心、非常值得庆贺的事儿，期待国内工艺愈来愈强劲，尽早摆脱被他人束缚的场面。