华为|深谋远虑，原来华为4年前就申请光刻专利了芯片

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深谋远虑，原来华为4年前就申请光刻专利了！近日，华为4年前光刻机专利出现了，专利名称是一种光刻设备和光刻系统，在国家知识产权局能够查询到。
虽然具体的原理不太明白，但不得不说，任正非和华为的眼光真的非常高远！其实以前台积电7nm工艺遇到瓶颈时，华为派了300人团队入驻台积电，经过3个月的研究，终于帮台积电解决问题。这也是华为和台积电虽然目前暂时无法合作，但关系依旧友好的原因。
再加上近期华为招聘光刻工程师，可以看出华为的IDM路线是走定了！华为目前的每一步，都是在逐个击破各个难题，早些年麒麟芯片没人看好，如今芯片领跑安卓手机芯片性能天梯图；后来有人说华为的屏幕不好，于是找京东方改良屏幕，如今已经无愧安卓旗舰！
芯片设计问题解决了，又遇到了芯片产能问题，台积电生产不了，就采用双芯片方案， Mate 40系列也许会采用麒麟+天玑双芯片方案，这就很好地解决了800万芯片用完后的芯片供应问题。
【华为|深谋远虑，原来华为4年前就申请光刻专利了】
现在华为从根本入手， ASML区别对待，把原本承诺的光刻机订单，给三星和台积电，中芯国际光刻机订单被无限期延后。国产半导体产业中的关键一环——光刻机，是当下亟待解决的问题，所以华为才招聘光刻工程师啊！
本来以为华为是今年才决定进军光刻机的，谁也想不到4年前就已经着手研发了，真的让全球科技圈为之震惊。不得不说，华为真的有一套，一次次让人眼前一亮，我在这里再提个建议，华为和上海微电、华卓精科一起合作，努力在短时间内造出高端光刻机，我们用时间换成果，用时间换芯片，值！