洛马|华为再度逆风行事，光刻机将要被代替！华为

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最近美国向我国芯片领域开始打压，中芯等企业开始进入大众的视野之中，而说到芯片领域就不得不提到光刻机这一机器，自然，这一名字也逐渐被广大的人民所熟知。那么这个机器说来简单，就是用光来雕刻芯片，但是也没有那么简单，让你在一粒米之上刻出一个图案，难度可想而知，可在芯片上刻的，可不仅仅是一个简单的图案。

光刻机的发展一定程度上决定了芯片的发展，在刚开始的28纳米发展到了现在的5纳米。其实在这个发展的过程中有许多的曲折，也有许多的笑话，在7纳米诞生的时候，就已经有一部分工程师表示7纳米已经是极限了。当然了，之后出现的5纳米自然非常打脸，现在再谈到多少多少纳米已经是极限了这样的话，一般都是笑话。
那么继5纳米之后的芯片必然会达到3纳米，再往下会达到1纳米，那如果再往下呢，小于1纳米的芯片该如何？其实5纳米到3纳米的改变其实并不多，是因为工艺和技术的不足。在现在这一种情况，人们不是去追求工艺或者技术的提升，而是应该寻找如何能够使得芯片有质的变化？现有的光刻机是没有办法满足需求的，也就是说，未来的光刻机可能会被淘汰，那么接踵而来的问题就是什么东西来代替光刻机呢？
经过众多实验研究，现在来说以石墨烯技术为主的碳基芯片将是最有可能的技术。北京的研究院也指出该技术将是未来最好的方向，它的性能和成本都比现在所采用的优秀的多，尽管现在技术不够成熟，但是代替先有的材料将是极有希望的。那么处于困境中的华为自然不会放过这次机会，如果成功，华为不仅能够从这次“危险”之中逃离出来，而且还可以完成大翻身，成为该技术的创新者。
【洛马|华为再度逆风行事，光刻机将要被代替！】而英国也想另辟蹊径，不愿再在芯片领域被美国所垄断，因此与华为共同合作，共同创新！