另外 ， 国产芯片这边也有了新的突破 ， 上周中国大陆芯片代工龙头企业中芯国际正式宣布将在今年年底小批量试产第二代N+1工艺的芯片 ， 按照台积电的计算方法 ， 这款芯片相当于8纳米制程
此外 ， 中国光刻机龙头企业上海微电子早在今年上半年就宣布28纳米的国产光刻机研发成功 ， 最快2021年正式量产 ， 到时候通过多次曝光技术 ， 28纳米光刻机就可以实现7纳米芯片的生产
所以 ， 最快2021年下半年中国将会扫清7纳米芯片国产化最大的两个障碍：工艺、光刻机！一旦这两个问题解决了 ， 剩下的都好解决！
加油 ， 中国科技人 ， 谢谢 ， 中国科技人！

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