风暴俱乐部|历时八年，原来中科院早有核心技术突破，光刻机国产迎来希望( 二 ) 由于众所周知的原因

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除了光刻机的核心技术：极紫外（EUV）光刻技术，就在2019年，在清华大学朱煜教授带领下，北京华卓精科成功的研制出了光刻机又一重要部件：双工件台。
要知道工件台是光刻机三大核心的光源、投影物镜、工件台中的重要一环，所以中国成为继荷兰的ASML之外，全球第二家掌握这项核心关键技术的国家。
总的来说，我们有着在默默科研，奉献几十年心血的科学家，也有积极自救的大型企业，光刻机，或者说国产半导体产业，依然是要艰苦创新，坚持自研，这样才能突破国外的垄断！
我们也要对国内的半导体企业有充足的信心，芯片领域的摩尔定律逐渐逼近，给予我们一定的时间，我们一定能造出属于自己的光刻机，甚至是芯片全产业链的国产化替代！
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