中芯国际|中科院宣布研发光刻机，中芯国际突破7nm工艺，高端国产芯片真的来了芯片|光刻机|it芯片

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随着国内芯片行业因为美国的原因陷入困境，但并没有消沉，反而迎来了新的一轮快速发展，中科院现在已经宣布加入光刻机的攻坚，作为中坚力量的企业也纷纷投身芯片行业。截至2020年八月，已经有9335家企业已经变更经营范围，加速半导体和集成电路相关业务，其中有不少曾经的主营业务于与芯片行业毫无关系，比如大家电中的翘楚格局也做起了“跨界” 。
此外在设计、制造、封测三个关键环节已经实现重大突破，设计领域拥有海思等一流企业不必过多赘述。制造领域中芯国际已经实现媲美7nm+的“N+1”技术，预计年底可以实现量生产。中芯国际CEO梁孟松还曾表示，中芯国际已掌握无需光刻机（EUV）就达到7nm的技术。而封测领域，国内封测行业已经跻身全球第一梯队。全球十大封测厂中，中国大陆长电科技、通富微电、华天科技3家公司已进入前十强，合计占有22%的市场份额。

不得不说这次中芯国际太争气了，媲美8nm的技术攻克，去年才把14nm的良品率提到95％，短短9个月时间， N+1工艺已经大有突破，可以进行小批量试产，客户导入工作已经在进行。虽然跟台积电5nm的技术还有一定差距，但在这么短的时间内迅速攻克N+1技术，据悉N+2技术已经准备在2021年试产。

【中芯国际|中科院宣布研发光刻机，中芯国际突破7nm工艺，高端国产芯片真的来了】
之前受制于光刻机的限制， 8nm的芯片技术迟迟没有突破，现在的中芯国际以N+1技术打造的第二代FinFET技术从成品性能等各方面已经可以媲美8nm工艺。这就意味着中芯国际能够绕过euv光刻机知道更高端的芯片，研究投入真的很需要钱，梁孟松本想靠着上次赚点研发资金，没想到上市之后，市值下滑还被骂惨了。

虽然美国最近给英特尔和AMD发许可证，让华为等国内芯片企业有了喘息的机会，但不能被这短暂的喘息时间蒙蔽，放弃自研，重蹈大飞机的遗憾，相信到2025年国产芯片自给率达到70%的目标一定会实现。