华为|华为没想到幸福来得这么快！ASML高管官宣：不敢失去中国市场 asml|光刻机|芯片

【华为|华为没想到幸福来得这么快！ASML高管官宣：不敢失去中国市场】

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【9月24日讯】导语：自从美国针对华为启动了“断芯计划”以后，面对非常严峻的芯片断供危机，更是有媒体直接曝光了华为的“塔山计划”、“南泥湾项目”等等，都逐渐开始浮出水面，据悉这次华为即便是遭受到史上最严峻断供打压，但华为并不会因此而放弃，华为海思半导体依旧还在大力的招兵买马，试图招募更多的顶尖半导体人才，为华为后续研发光刻机、建设芯片晶圆厂，打造自主可控的国产芯片生产线，但根据不少媒体深挖之后才发现，原来华为最早在2016年，就开始研发光刻机的相关技术以及专利，提前做好了相关的布局。
但值得注意的是，从华为过往所遭受到一系列打压制裁的情况来看，每次华为都是被逼无奈，才不断地将“备胎计划”直接转正，当然华为能够早早预测到华为未来可能会面临被断供芯片的危机，所以提前准备了“后手” ，但对于华为而言，或许也未曾想到这一天会来的如此仓促，所以对于华为而言，想要研发光刻机设备并非一朝一夕就可以完成，从ASML、佳能、上海微电子等等，都需要经过十几年的研发积累，最终才能够在光刻机设备领域取得成果。
面对美国新一轮制裁，现如今的华为显然也无法解决目前所遭受到一系列芯片产业链技术、设备的断供，但对于华为而言也是幸运的，美国不断地针对中兴、华为、海康威视、大疆等中国科技巨头，彻底的敲醒了我们国内所有科技公司，在核心技术领域一味依赖于别人，终究还是无法摆脱被西方国家卡脖子的问题，终于在本月，中科院正式对外宣布，将举全院之力攻克光刻机技术、半导体材料等等，帮助中国企业摆脱被西方国家“卡脖子”的尴尬局面。
就在中科院重磅官宣以后，华为创始人任正非也带领华为一众高管，直接拜访中科院，这意味着在华为、中科院强强联手之下，国产光刻机设备很快就可以取得新的技术突破，此前中科院就曾被曝出研发出5nm光刻技术，一旦这先进的光刻技术被应用到光刻机设备上，不仅仅可以极大提高国产光刻机的光刻精度，同时也可以提高国产芯片制造工艺水平，打破我们目前只能生产28nm光刻机以及14nm芯片的瓶颈。
但就在我们国产光刻机传来利好消息以后，全球最大光刻机制造商—ASML也开始主动出击， ASML公司全球副总裁沈波对外表态：“ASML作为全球半导体行业最为重要的合作伙伴，未来ASML将会加快在中国市场的布局。 ” 根据半导体产业人士分析，这次ASML公司主动对中国市场释放友好信号，无疑也是察觉到了危机，一旦我们造出了属于我们自己的国产高端光刻机设备，意味着ASML将不再是全球最厉害、最高端的光刻机生产厂商，全球仅此一家，所以为了ASML的霸主地位不受到影响或威胁，所以ASML公司也不得不开始对外放话，加快中国市场布局，彻底的打消中国研发光刻机的计划和信念，而后续ASML则会继续出售中低端的光刻机设备给中国企业，让我们国产芯片产业链一直都受到限制，无法取得跟更大的技术突破，当然在这其中也是存在美国作祟的踪影；
所以我们一定要加快速度研发国产光刻机，不能够再次因为ASML公司的一番表态，再次放弃自主光刻机的研发道路，尤其是在当下，不断遭受到来自于美国压力，国内科研公司、科研机构等等都史无前例达成了一致—“去美化” ，所以我们一定要借助这次机会，加速国产光刻机研发，不要被ASML公司的一番怀柔策略而瓦解了斗志。