光刻机|华为没想到危机会来得这么快,ASML主动出击!


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文 | 考拉科技馆 排版 | 考拉科技馆

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在美国断芯计划启动后 , 华为又一神秘项目浮出水面 , 光刻机!相信很多人都听过 , 在今年7月份的时候 , 网上就有消息传出 , 说华为正在招兵买马 , 花高薪到国内外各大科研机构招募顶尖半导体人才 , 准备自建芯片晶圆厂 , 发力光刻机 , 实现芯片自主制造 。
值得注意的是 , 从最新消息来看 , 华为自建晶圆厂的计划并非是在今年制定的 。 据多家媒体报道 , 早在2016年 , 华为就已经申请了光刻机相关的技术专利 , 提前做好布局 , 累计投资已经超过542亿人民币 。
显然 , 华为发力光刻机并非是迫于现实无奈而为之 , 而是早早就意识到可能会面临被断供芯片的危机 , 所以提前预留后手 。 只是 , 华为没想到危机会来得这么快 , 虽然在五年前华为就已经开始发力光刻机 , 但时间终究还是太仓促了 。
毕竟光刻机的研发并非一朝一夕就能完成的 , 需要长时间的积累 , 怎么着也得十年以上才能见到效果 。
华为也没想到危机会来得这么快!面对美国新一轮制裁 , 现在的华为 , 已然是到了最危急的关头 。 不过 , 让华为稍感安心的事 , 它并不是一个人在直面这场危机 。 本月 , 中科院宣布决定 , 将举全院之力攻克光刻机技术 , 帮助中国企业摆脱被西方国家卡脖子的问题 。
有了中科院的加入 , 华为研发光刻机的脚步无疑会被加快不少 , 或许不用十年之久 , 华为就能在光刻机领域有所建树 。 而且从中科院早些时候传来的消息来看 , 中科院已经研发出5nm光刻技术 , 如果能顺利落实到国产光刻机上 , 那将大大提升国产光刻机的光刻精准度 , 打破我们只能生产28nm光刻机的瓶颈 。
值得一提的是 , 在华为发力光刻机 , 中科院也宣布举全院之力攻克光刻机的消息后 , 全球最强大的光刻机制造商ASML却主动出击 , 释放要加快在中国市场布局的信号 。
不久前 , ASML公司全球副总裁沈波对外表态 , 称作为全球半导体行业的合作伙伴 , ASML将加快在中国市场的布局 。
业内猜测 , ASML主动出击 , 释放要在中国发展的信号 , 可能是察觉到了危机 。 因为中国是全球最大的半导体消费市场 , 而半导体的制造 , 又离不开光刻机 。 现在中国已经在研发光刻机 , 如果中国取得突破 , 制造出中国光刻机 , 那么ASML的地位将受到影响 , 至少在中国市场 , ASML将不再吃香 。
或许有人还不了解 , 近几年 , 中国半导体企业曾多次向ASML采购光刻机 , 但都被ASML以莫须有理由拖着 , 迟迟不发货 。 这其中固然有美国在作祟 , 但也不乏有ASML公司对中国半导体企业的轻视成分 。
面对骄傲的ASML公司 , 我们所能做的 , 就是研发属于自己的光刻机 。 现在在美国制造的压力下 , 国内科研单位史无前例地达成一致 , 这是好事 , 我们必须加快光刻机的研发速度 。
编者认为 , ASML公司在这个时候说要加快在中国市场的布局 , 其目的就是打消中国研发光刻机的计划 。 后续 , ASML公司很可能会选择出售一些中低端光刻机给中国半导体企业 , 让国内半导体企业尝到甜头 , 进而达到让我们放弃研发自主光刻机的目的 。