莫小帅|超越ASML指日可待，华为这次有救了！中国光刻机取得重大突破华为这次有救了！中国光刻机取得重大突

华为这次有救了！中国光刻机取得重大突破，超越ASML指日可待
目前，全球仅有的几家芯片供应商，必须依赖美国的技术才能完成量产，比如三星、台积电。而完成一款高精度芯片的量产就必须具备两个条件：设计和制造，这两点缺一不可！如果仅拿设计而言，对大多数国家来讲并没有多大的难度，但难就难在了制造上，我国的华为就被卡在了这里。

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【莫小帅|超越ASML指日可待，华为这次有救了！中国光刻机取得重大突破】说来惭愧，我国每年进口芯片所花费的费用就高达几千亿美金，而这些钱都被美国企业装进了口袋里。华为如今的境况很是严峻，虽然台积电最后送来的麒麟芯片库存还能撑一撑，但终究不是长久之计，因为在如今的中国手机市场上，华为手机已经出现了供不应求的现象。
但就在华为一筹莫展的时候，近日有突破消息称：我国已经拥有了紫外超高分辨率光刻机，经过芯片电路技术突破到了10nm以下的生产工艺，不出意外的话，在今年年底就能够实现量产7nm 。

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这不仅对华为来说是一个好消息，对整个中国科技企业都是一个好的征兆。如果实现量产，那么包括华为在内的手机厂商都不必害怕被别人卡脖子了。目前各国公认的光刻机领头羊就是荷兰ASML ，荷兰ASML所制造的极紫外光刻技术已经能够实现5nm的芯片生产，而中国在2007年才刚刚开始制造出90nm的光刻机，两者之间的技术含量差不多相差10年以上。

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目前我国这次芯片电路技术的突破，只是在实验阶段，想要实现完全商用，还需要大量的成本和时间。但对于华为不必太过担心，国产光刻机的一次次快速突破，已经让荷兰ASML倍感压力，荷兰ASML总裁曾表示：中国永远不可能造出高端光刻机，而现在我国用赤裸裸的现实打了荷兰ASML的脸，中芯国际目前就已经能够量产14nm芯片了。

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当我国的光刻机技术与荷兰ASML站到同一高度的时候，不仅是华为在世界的地位将更加稳固，我国其他企业也不用再担心美国的封杀和制裁！相信在未来的某一天，我国的国产光刻机会在中国科学家的手里超越荷兰ASML ，因为只要中国人努力就没有什么不可能的，到时华为将彻底摆脱“美国制造”的束缚，成为真正的“中国智造” 。大家对此有什么看法呢？欢迎在下方留言评论，本文由青蜂天下原创，禁止抄袭，侵权必究！