芯片|中芯国际正式官宣！8nm芯片年底试产，不需要EUV光刻机中芯国际|光刻机|官宣|it芯片

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近几年来，随着老美变本加厉的压制行为，让我们国内意识到了核心技术自主化的重要性。尤其是在半导体芯片领域，国内必须摆脱对国外相关技术的依赖，因为华为的例子告诉了所有国产科技公司：只有将技术掌握在自己手里，才能避免受制于人！
虽然国内的芯片技术水平与老美相比还有着一定的差距，但是现在我国越来越重视这方面的自主研发，并且开始大力扶持国产半导体公司的发展。在这种情况下，国产芯片没有理由不崛起，赶超国外先进技术也是指日可待！
近日，国内传来了一个好消息，中芯国际正式官宣！8nm芯片年底试产，不需要EUV光刻机。这意味着中芯国际在芯片生产方面取得了很大的突破，一直困扰着国内的难题终于看到了解决的希望！
【芯片|中芯国际正式官宣！8nm芯片年底试产，不需要EUV光刻机】
中芯国际是国内大陆最大的芯片代工厂，主要业务是为客户代工各种芯片产品，与台积电的性质类似。不过，二者相比之下，中芯国际肯定是比较落后的，因为台积电是全球最大的代工厂，常年占据着一半以上的市场份额。
我们要知道，衡量一个代工厂强弱的标准并不是规模，而是技术实力。所以中芯国际要想追上台积电的脚步，还有很长的路要走。但是在9月18日中芯国际官宣技术突破之后，它与台积电的差距被进一步缩小了！
据了解，中芯国际的第二代N+1工艺已经进入了客户导入阶段，将在今年年底批量试产。采用该工艺技术生产出来的芯片可以达到10nm下的水平，如果按照台积电的计算方式，可以称之为8nm芯片。
可能很多人都是第一次听说8nm芯片，但是它与7nm芯片几乎是同一个制程，在各方面的表现也都很出色。根据中芯国际透露的数据来看，由N+1工艺生产出来的8nm芯片相较于台积电的14nm而言，性能提升了20% ，功耗降低了7% ，面积缩小了63%！
由此可见，中芯国际的N+1工艺还是非常厉害的，这也是我们国内首次达到10nm以下的水平。更重要的是，中芯国际的工艺技术摆脱了对光刻机的依赖，也就是说8nm芯片不需要EUV光刻机就能生产出来。
相信大家都知道，光刻机是芯片生产过程中必不可少的设备，而且只有高端的光刻机才能生产出先进的芯片。我们国内的芯片事业之所以迟迟无法突破，就是因为造不出来高端的光刻机。
但是现在情况不一样了，中芯国际的N+1工艺不用光刻机就能生产出8nm芯片，这为国内指明了一个新的发展方向。不过， 8nm还算不上顶尖的芯片制程，中芯国际必须再接再厉才能真正摆脱对国外技术的依赖。
总的来说，中芯国际8nm芯片试产对于我们国内而言是一个难得的好消息，或许能促进国产芯片的进一步发展，并且帮助华为走出困境。但是我们不能盲目乐观，要知道台积电和三星都达到了5nm的水平，中芯国际任重而道远！
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