[光刻机]南大光电突然宣布！国产光刻机有望实现“零”突破，日美始料未及芯片|南大光电|光刻胶

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芯片在科技领域的地位就相当于航母在军事领域的地位，所以芯片就成了当下科技竞赛的主战场，各大科技企业都希望在芯片领域取得主导。而芯片技术正是我国科技的一项软肋，就算是国内第一科技巨头在芯片领域也要受制于人，正因如此，美国抓住了华为这一软肋，在供应链、生产链上都对华为施行了强力限制。但是美国发布新规之后，宣布我国使用凡是包含美国技术的一切设备都需要经过美国商务部同意，这也很大程度地阻碍了我国芯片领域的发展。
大家都知道华为拥有世界领先的芯片设计能力，但是芯片制造始终是我国的最大软肋，而造成这一软肋的最重要原因就在于光刻机。光刻机是整个芯片生产过程中所需要的最重要设备，举个例子，台积电之所以现在就可以量产5nm芯片，是因为台积电拥有能够研发5nm芯片的光刻机，而目前我国芯片生产巨头只能够量产14nm芯片，之间差距还是非常大的，不过好消息就是中芯国际订购的首批7nm光刻机已经抵达国内。也就是说如果没有高端的光刻机就无法生产出高端的芯片。不过我国在这方面为了追赶上来，投入了大量的资金和时间，终于是有好消息传出。近日国内的南大光电传出消息称，国产ArF光刻胶的研发取得了重大进展，拥有7nm芯片制造工艺，并且即将进入量产及销售阶段。这个消息对我国芯片制造领域来说绝对是个重大好消息，要知道此前国内要想有高端的光刻机都必须通过进口，而在目前的形势下，光刻机的购买难度也加大了。而光刻胶技术是光刻机的重要部分，我国也有望在未来不久就能实现光刻机“零”的突破。
【[光刻机]南大光电突然宣布！国产光刻机有望实现“零”突破，日美始料未及】
这一消息也同样让日本和美国始料未及，这两个几乎占据了光刻胶市场的国家，可以说是垄断了光刻胶技术。此前我国所使用的技术也基本是出自这两个国家。而南大光电此次在光刻胶技术取得了重大突破，证明了我国不依靠外国的技术，也可以取得重大进展，并且在未来光刻机技术上也可以更多地自主创新，不用再受制于人。无论对光刻机的生产还是芯片的制造都能够自力更生地。但是我们说得好的方面都只能是讲未来，因为实话说在目前我国的光刻胶技术与日本、美国的技术还是有一定差距的，还不够成熟的。不过我们需要的就是坚持自主研发的精神，技术环境多么艰难，我们也要挺直腰板去坚持研发，只有拥有了自己的独家技术，才能在这场科技竞赛中取得最终胜利。而南大光电取得的成绩，不仅为我国的光刻机研发增添了信心，也让我们看到了我国尽管起步晚，但是只要顽强奋斗，不断追求进步，终有一日可以在世界科技领域占据重要位置的。