光刻机：国产光刻机能实现多少nm工艺制程？还差一点什么？上海市|微电子

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【光刻机：国产光刻机能实现多少nm工艺制程？还差一点什么？】

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中芯国际所采用的光刻机依旧是来自ASML ，并不是真正的国产。目前国内光刻机最先进的制造企业是上海微电子，但目前也只能生产90nm的低端光刻机。相对于ASML有着至少15年的技术差距！
2002年，光刻机被列为国家863重大科技攻关计划，并由科技部和上海市共同推动成立上海微电子装备有限公司（SMEE）， 2008年国家进一步启动“02”科技重大专项主力上海微电子攻关克难！18年来，实现我国光刻机领域从无到有的突破，在用于封装的后道光刻机上面取得了非常不错的成就，而用于芯片制造的前道光刻机——也就是我们常说的光刻机难度更高，目前只能实现90nm的低端产品……
端光刻机不是一家企业的任务，而是全套产业链的任务ASML之所以能达到这样的高度，并不是荷兰有多厉害，而是全世界的产业链相结合。有多家大股东提供添加研发资金，有来自德国蔡司的镜头，也有来自美国的光源，更有三星的高精度机械组装；而ASML做到就是控制，把13个分系统，数万个零件完全调动起来！
上海微电子的任务和ASML相似，也是主导控制系统。这一方面是非常难的，看国内数控机床的控制系统就可以窥出一二了，而光刻机的控制难度更高……
其次，国内的产业链也达不到ASML产业链的高度，巧妇难为无米之炊呀！我们做镜头的企业，做光源的企业等都与国外最顶级企业有着一定的差距。比如ASML的镜头来自德国蔡司，德国蔡司成立于1846年，以做显微镜起家，提起蔡司也总是与昂贵和高质量的光学镜头联系在一起。而镜头材质想要做到均匀，需要数十年的技术积累，还有“大国工匠”的手艺传承，可以说——同样一个镜片，不同工人去磨，光洁度相差十倍。我国企业显然并没有这样的底蕴……
总结其实光刻机不是芯片制造的唯一决定因素，光刻机能做的其实只是“打地基” ，在地基之上，还有许多工艺也是我国急需发展的，比如Dep ， Etch ， CMP ， Anneal等……国产光刻机任重道远，需要发力的也不是只有半导体企业，更需要全国全产业链的配合！