『光刻机』重磅！国产光刻机已交付两台，未来打破市场垄断，将指日可待光刻机

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重磅！国产光刻机已交付两台，未来打破市场垄断，将指日可待。作为我国自主研发的一家安芯半导体公司，已在上个月的时候向海康威，移交了我国首台自主研制出的光刻机。据相关媒体透露：该台光刻机将用来于对耳温枪的研发。
而在移交首台光刻机之后不久，我国又自主研制出了第二台光刻机，如今也成功地移交了。据悉该台光刻机将用来互补金属氧化物类型的半导体材质的研发。两台我国自主研发出的光刻机成功移交，也代表着我国在半导体领域取得了阶段性的胜利。
【『光刻机』重磅！国产光刻机已交付两台，未来打破市场垄断，将指日可待】国产光刻机的发展前景
众所周知，光刻机是一种研发和制造大型的集成电路的核心设备，它对于芯片能否自主研发出来有着极其重要的作用。倘若没有光刻机的存在，芯片的研发就无从谈起。就美国之前采取的针对华为的事件，也让我们明白了：想要彻底地不受别人的牵制，也只能自主研发其核心设备。
在早期的阶段，由于我国技术的不成熟，使得我国在半导体领域的发展一直受到别国的牵制。现阶段世界各国已经掌握光刻机的核心制造技术的国家，也是寥寥无几的。
由于之前我国的光刻机一直靠着进口荷兰的一家SML公司，这也使得我国不得不向其支付高额的进口费。再加上曾经中芯国际向SML公司预定了一台具备紫外线技术的光刻机，在给出8.4亿人民币后，长达两年的时间SML公司并未向中芯国际移交这台预定的光刻机，这就使得我国不得不加快速度地对光刻机的研发脚步。
核心技术已掌握，取得了阶段性胜利
随着我国科学家们的不断努力，最终传来了光刻机核心技术已经掌握的好信息。中芯国际相关的负责人张琪发表言论说：虽然现如今生产出的这两台光刻机的某些元件，还是不能够完全地实现国产化，但其总体已经达到了70%的国产自主化。我国光刻机的成功研制，也代表着我国已经成功地迈出了打破核心技术的第一步。其光刻机最终实现完全自主化，也只不过是时间的问题罢了！
对于我国现阶段自主研发出的光刻机来说，其虽然有些技术还并不成熟，但这也代表着我国在光刻机领域的发展还有着极大的发展空间。我国光刻机未来的道路即使还有很长的一段路要走，但我们始终不会放弃。为了支持我国光刻机的自主研发，我国之前成立的国家级集成电路行业还对光刻机的发展以及芯片的研制，投入了将近3387亿的研制基金。
总结：虽然我国自主研发出的光刻机比SML公司的光刻机存在着一定的差距，但这也是我国取得的阶段性胜利，也意味着我国在未来的某一天，自主研发出的光刻机有着极大的可能性追赶上SML的。我国已经成功地迈出了第一步，相信在未来取得的成就也一定震惊世界!