在半导体制造之中 ， 光刻机是不可或缺核心设备 。 最先进的极紫外光刻机更多用于复杂的逻辑芯片制造 ， 不过三星已经将极紫外光刻机应用到DRAM内存颗粒的制造当中 。

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三星在3月26日宣布 ， 已经出货100万第一代10nm EUV级(D1x)DDR4 DRAM模组 ， 并完成全球客户评估 ， 为今后高端PC、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门 。
【「三星集团」三星率先为DRAM存储导入EUV技术 提升效率性能】三星表示 ， 将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV ， 明年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片 ， 预计会使12英寸晶圆的生产率翻番 。 得益于EUV技术 ， 可以在精度更高的光刻中减少多次图案化的重复步骤 ， 并进一步提升产能 。
不过 ， 目前支持DDR5的PC平台尚未亮相 ， LPDDR5倒是已经逐渐铺开 。 三星量产的第一代EUV DDR5 DRAM单芯片容量为16Gb(2GB) ， 地点是平泽市的V2线 。
根据三星此前的预判 ， EUV将帮助公司至少推进到3nm尺度 。

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