「」2纳米芯片关键技术突破!中科院再立大功,推动中国芯崛起


欧界报道:
中兴事件之后 , 中国芯的发展就牵动着亿万国人的心 , 各大厂商也付出了不懈地努力 , 通宵达旦地进行研发工作 , 争取早日在制程工艺上实现新的突破 , 打破外国技术的垄断 。
然而 , 功夫不负有心人 , 经过一段时间的努力 , 中国芯的研发也传来了好消息 。 去年 , 中芯国际表示14nm制程工艺芯片已经开始投入生产 , 今年将实现大规模量产 。 前阵子 , 中科院又传来好消息称 , 已经突破了2nm制程工艺芯片的关键技术 , 该技术完全是由我国自主研发的 , 也是世界首创 , 这也是我国芯片发展史上的里程碑事件 , 为日后国产高端芯片的发展奠定了良好的基础 。
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此前 , 我国在芯片领域的研发可以说并不顺利 , 因为很多设备、零部件都需要依赖国外厂商 。 如今台积电、三星都要实现5nm制程工艺芯片量产 , 朝着3nm制程工艺发展 , 而我国却停留在14nm制程工艺阶段 , 可见和巨头之间还存在着一定的差距 。 原本国产7nm制程工艺芯片也是有发展的希望的 , 不过因为美国横插一脚 , 导致荷兰ASML光刻机无法进入中国市场 , 国产7nm制程工艺芯片的发展步伐智能放缓 , 但后期经过中芯国际的努力 , 国产7nm芯片无需使用光刻机也能问世 , 与此同时中科院研发的2nm芯片在2024年也将投入生产 , 届时国产芯片将获得很大的进步 。
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目前 , 国产14nm芯片已经投入生产 , 各方面表现都很出色 , 和其他国家也形成了良好的合作 , 一切都朝着更好的方向发展 。 尽管如此 , 但也不能骄傲 , 要认清目前的形势 。 虽然我国实现了芯片关键技术的突破 , 只是我国还不能制造出优秀的光刻机 , 而缺失光刻机就会导致很多芯片制程技术落后 。 和ASML的合作出现问题 , 也表明了研发自己的光刻机有多么重要 , 毕竟别的厂商不能一直为中国厂商提供技术 , 中国芯片发展的命运还是要掌握在自己手中 。
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虽然芯片研发过程很苦很累 , 但经过过去的努力 , 国产芯片已经取得了一定的成绩 , 所以未来还要咬牙继续坚持下去 , 莫让前期努力白费 。 日后国产厂商要努力加强研发 , 将芯片话语权掌握在自己手中 , 早日成为芯片行业中的领先者 。
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