「就要买买买」国内光刻机停留在90nm，差距真大，ASML明年推2nm光刻机随着智能手机全面普及

随着智能手机全面普及，让很多消费者开始了解到手机芯片的重要性，现在具有高端手机芯片研发能力的企业很多，比如三星，苹果，高通，联发科，华为这五个巨头，然而在全球数十家手机厂商中，只有那么三家能研发自己的芯片，国内只有华为做到。小米OV等五六家厂商都是使用高通、联发科、三星提供的处理器，因此不少网友表示如果这些巨头断供芯片，很多国产手机品牌会很快瘫痪，因此让越来越多的人知道芯片已经成为手机、电脑等领域的制高点。

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然而最近有消息称美国要把芯片制造技术授权数量降低至10% ，目的是让台积电和三星限制对华为麒麟芯片的代工生产，除此之外还阻挠ASML给国内企业出售高端光刻机，这两条消息公布后，光刻机的曝光率越来越高，越来越多的人认识设计芯片不是最高的制高点，光刻机才是芯片领域的真正制高点，没有光刻机，设计出再好的芯片也等于白设计。

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如今能自研光刻机的企业不超过三家，而且他们之间的差距巨大，目前高端光刻机只有ASML能做出来，三星、台积电、英特尔所代工的芯片生产设备，就是从ASML进行购买。 ASML几乎垄断了光刻机的所有核心技术专利，而且不会对外出售，即使一台光刻机非常昂贵，但一直处于供不应求，一些订单甚至需要两三年后才能交付，有钱也很难买到。

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现在三星和台积电已经确定在今年下半年生产5nm高端手机芯片，这说明ASML已经把支持5nm的光刻机交付给三星和台积电。根据了解，台积电今年下半年将生产5nm工艺的A14芯片，所使用的光刻机和现在生产7nmA13是同一台，也就是ASML当今最强的3400C光刻机，其支持7nm芯片生产，也支持5nm芯片生产。既然5nm光刻机早已经大规模出售，说明ASML更先进的光刻机也研发得差不多了，就在近日， ASML宣布在明年量产5000系列光刻机，最高支持2nm芯片生产，自然也支持5nm和2nm之间的3nm芯片生产。

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显然， ASML研发光刻机的速度已经超过全球各大科技巨头设计芯片的速度，但国内光刻机的研发速度远不如芯片设计速度，根据了解国产最高端光刻机的工艺技术为90nm ，和SAML之间的差距无法衡量。国产光刻机差距大的因素很多，比如起步晚，技术人才少，专利数量少，众多核心器件无法获取等等。虽然中芯国际已经研发出14nm技术， 10nm和7nm也很快突破，但没有相应的高端光刻机，所以也生产不出芯片。中芯国际向ASML购买7nm光刻机，但大家都知道已经被美国阻挠， ASML只能宣布断供。

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【「就要买买买」国内光刻机停留在90nm，差距真大，ASML明年推2nm光刻机】现在国内以华为为代表的芯片设计巨头开始扶持中芯国际，据悉14nm订单已经交给中芯。总的来说，虽然国产光刻机和ASML差距很大，但一步一个脚印的研发，相信不久后国产高端光刻机就会诞生，就能彻底防止ASML和台积电的限制。