王涛娱乐探|中国芯迎来转机！两大芯片制造设备突破，西方打压套路再次重演？

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导读：中国芯迎来转机！两大芯片制造设备突破，西方打压套路再次重演？
众所周知，自从我国的中兴通讯和华为公司被美国打压以后，让我们马上就意识到了国产科技企业在半导体芯片领域发展的短板，由于我国在半导体芯片领域起步较晚，基础较为薄弱，再加上国外技术的垄断，所以我们一直都没能生产出属于我们自己的国产高端芯片来，而唯一能拿得出手的也仅仅只是华为的海思麒麟芯片，而华为也只是具备芯片的研发能力，并不具备芯片的生产能力，所以这就导致国产科技企业也很容易被卡脖子发展！

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长期以来，国产科技企业生产所需的芯片，几乎都是依赖于美国高通、英特尔等科技企业进口而来，每年我国的芯片进口规模甚至超过了石油，在众多的进口商品中位列第一；这也让国外的半导体芯片企业因此而赚得盆满钵满；在今年的5月份，美国再次的颁布了针对华为的芯片新禁令，这一次特朗普直接对准了我们的软肋，想要切断华为的芯片供应链体系，这也让华为将面临芯片断供的危机！
【王涛娱乐探|中国芯迎来转机！两大芯片制造设备突破，西方打压套路再次重演？】

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在芯片制造领域，我们和国外还有很大的差距，但想要进行破局也不是没有可能，芯片的生产制造过程非常的复杂，可以说芯片的生产也是一个点石成金的过程，从砂子到晶圆再到芯片，这其中需要经历很多的复杂工艺；而在芯片的生产过程中，不仅需要光刻机设备的支持，而且我们还需要离子注入机以及蚀刻机等先进的设备来支持才行，这三大设备可以说是光刻机生产过程中必须要用到的关键设备，想要制造高端芯片，这三个设备缺一不可！

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最近这两年，随着越来越多的国产科技企业开始布局半导体芯片领域的研发，让中国芯片也迎来了一定的转机；为了攻克芯片制造，我国从多方面不断努力，尤其是在生产芯片的三个关键设备领域，经过国产科技企业的多年努力，现在也都取得了一定成就和突破；据悉，在蚀刻机领域，中微半导体已经突破了5nm蚀刻机的研发，并达到了国际领先水平，而我们所研发出的先进蚀刻机也已经被用于台积电今年的5nm芯片生产中了，在光刻机方面：上海微电子传来的消息显示：将于明年交付国内首台28nm浸没式光刻机，可以说这也是国产光刻机所取得的重大突破；而在离子注入机方面：中国电子科技集团也已经宣布研发成功高能离子注入机，并实现百万电子伏特高能离子加速技术的突破，性能达到国际先进水平。

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看到中国在芯片生产领域取得一个又一个的突破，这也让我们感到非常的欣慰，其中光刻机和高能离子注入机的成功，都是从无到有的突破；这两大设备取得成功后，中国在芯片制造领域也将再进一步，但在这个关键时刻，西方的打压套路也再次的重演；一直以来西方都一个惯用的打压套路，那就是在我们没有时，他们狮子大开口要价，当我们取得技术攻克后，他们就狠狠降价，让我们的自主研发产品失去竞争力，无法再继续前进，而这一次中国在光刻机领域取得技术突破以后，荷兰ASML公司的光刻机就进行了降价，想要抢占国内市场，让我们自主研发的产品失去竞争力，无法再继续前进，最终达到垄断市场，但对这样的打压套路，我们不能上当，只有不断的加大自主研发的力度，并一鼓作气，取得最终的生产芯片的技术才行，不知道对此你是怎么看的呢？欢迎留言！分页标题