光束 ASML官宣全新半导体技术 5nm工艺产能有望暴涨600% 《科创板日报》（

【光束 ASML官宣全新半导体技术 5nm工艺产能有望暴涨600%】《科创板日报》（上海，研究员何律衡）讯，全球最大光刻机设备制造商ASML近日在其官网宣布，完成了第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000的测试。

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ASML官网截图据悉， HMI eScan1000是一套基于HMI多光束技术的检测系统，用于验证5nm及更先进工艺生产出来的晶圆质量，其突破之处在于，能够同时产生、控制九道电子束，帮助产能提升600% ，大大减少晶圆质量分析所用的时间。
业内普遍认为，工艺越先进，检测系统就越重要，后者的检测精度、吞吐量决定了生产的效率。 ASML的HMI产品营销副总裁Gary Zhang表示，随着制程工艺不断提升，晶圆的制造愈加复杂， "杀手级"的缺陷也更加微小，无法通过现有的光学检测技术和设备一一锁定。
"我们的HMI多光束检测系统能够检测到这些微小的缺陷，同时解决了电子束通过量的限制，使其更适合于大批量制造环境。 "Gary Zhang强调。
据介绍， HMI多光束系统包含一个复杂的光电子系统，能够产生和控制多个初级电子束，然后收集和处理反射回来的次级电子波束，同时将波束之间的串扰限制在2%以内，并提供一致的成像质量。
此外，该系统还具有提高系统总体吞吐量的高速阶段，以及实时处理来自多个波束的数据流的高速计算体系结构。除了物理缺陷外，还适用于电压对比检测。
官网文章透露， HMI eScan1000已于本周交付客户进行验证。将来， ASML还计划增加光束数量和光束分辨率，以满足客户未来对更先进工艺的要求。
据了解，光刻机是半导体制造领域的核心设备之一，而ASML是全球技术水平最高、影响力最大的光刻设备供应商，市场份额达到80% ，同时也是全球最先进极紫外（EUV）光刻机的唯一供应商。